Photo mask and method for forming overlay vernier in semiconductor device using the same,申请号KR20070071057-传众专利搜索

首页产品黄页商标征信

会员服务注册登录

法人/股东/高管

发明名称	Photo mask and method for forming overlay vernier in semiconductor device using the same
摘要
申请公布号	KR100985307(B1)	申请公布日期	2010.10.04
申请号	KR20070071057	申请日期	2007.07.16
申请人		发明人
分类号	H01L21/027;G03F1/42;G03F1/68	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
主权项
地址

您可能感兴趣的专利

Einrichtung zur Bestimmung der UV-Strahlungsstärke und -dosis mittels UV-empfindlicher Sensoren

SYSTEM MIT RÜCKKEHR ZUM REFERENZPUNKT.

NEW POLYAMINOCARBOXYLATE CHELATORS

BENZIMIDAZOLYL QUINOLINE-3-CARBOXYLATE DERIVATIVES, INTERMEDIATES THERETO, AND THEIR USE AS HERBICIDES

Zusammenbau eines mehrstufigen Kettenrades für ein Fahrrad.

Verschlussring für Metalldose mit Deckel.

Kraftfahrzeug-Bremsverfahren und -vorrichtung durch Steuerung des, auf ein Rad angelegten, Bremsmomentes.

Muttermilch-Fettersatzstoffe.

Magnetplatte mit Permanentmagneten.

Vorrichtung zur Einstellung der Position eines Kraftfahrzeugstossfängers.

Vorrichtung zum Abschrägen der Kerbe eines Plättchen.

Dichtungsband für Pfeilgeschoss.

Positions- und Verschiebungsdetektor.

Folienklemmeinrichtung für eine Form.

FAHRTREPPESYSTEM.

Verfahren und Mittel zum Prüfen der Arbeitsbedingungen an einem Farbband.

Befestigungsmitteleintreibgerät.

GASSCHICHTFÖRDERUNGSEINRICHTUNG FÜR LÄNGLICHE BAHNMATERIALSTREIFEN.