发明名称 图样形成装置及图样形成方法
摘要
申请公布号 TWI330550 申请公布日期 2010.09.21
申请号 TW096111790 申请日期 2007.04.03
申请人 井上股份有限公司 日本;巨腾国际控股有限公司 香港;三有限公司 台北县新庄市新树路483巷36号 发明人 杉浦好典;西川润;中冈良一;金田知佳;原田昭人
分类号 B05D5/00 主分类号 B05D5/00
代理机构 代理人 陈传岳 台北市大安区仁爱路3段136号13楼;郭雨岚 台北市大安区仁爱路3段136号13楼
主权项 一种图样形成装置,其特征在于:将复数个片型磁铁,沿着藉由将含有薄片型磁性粒子之涂料组合物涂覆于待涂装物品所形成涂膜之表面,以各个片型磁铁之侧面相互接触,且相邻片型磁铁之正面磁极互不相同,背面磁极亦互不相同之方式排列;藉由该复数个片型磁铁将磁场施加于该涂膜,使得该涂膜中之磁性粒子被该磁场定向,其中各个片型磁铁间之接触部分之磁性粒子被定向成大体平行于该涂膜之正面,且藉由至少各个片型磁铁之接触部分上方之磁性粒子于涂膜上形成图样。如申请专利范围第1项所述之装置,其特征在于该图样系藉由经磁场定向之磁性粒子所形成,该磁场系封闭于相邻片型磁铁之接触部分附近之各个片型磁铁之磁极之间。如申请专利范围第1项所述之装置,其特征在于被封闭于该相邻片型磁铁之磁极间之磁力线之极值位于该等相邻片型磁铁间之接触部分之上方。如申请专利范围第1项至第3项中任一项所述之装置,其特征在于该复数个片型磁铁系藉由下述方法形成,该方法包括:藉由将未经磁化之塑胶磁铁片切割成预定图样,并自该塑胶磁铁片分离出分离片;磁化该塑胶磁铁片及该分离片,使得该塑胶磁铁片与该分离片具有沿不同方向延伸之磁力线;及磁化后,将该磁铁片返置并啮合于该塑胶磁铁片之分离标记处。如申请专利范围第1项至第3项中任一项所述之装置,其特征在于该图样系对称形成于该涂膜之正面与背面之间,且该复数个片型磁铁系藉由包括下述步骤之方法形成:藉由将经磁化之塑胶磁铁片切割成图样,并自该塑胶磁铁片分离出分离片;颠倒该分离片;及将该经反转之磁铁片返置并啮合于该塑胶磁铁片之分离标记处。如申请专利范围第1项至第3项中任一项所述之装置,其特征在于该待涂装之物品为片型。如申请专利范围第1项至第3项中任一项所述之装置,其特征在于该涂膜之表面系平坦状。一种图样形成方法,其特征在于:排列复数个片型磁铁,使得该等复数个片型磁铁沿涂膜之正面彼此相邻,该涂膜系藉由将含有薄片型磁性粒子之涂料组合物涂覆于待涂装物品而形成;及藉由至少各个片型磁铁之接触部分上方之磁性粒子于该涂膜上形成图样,其中藉由该复数个片型磁铁将磁场施加于该涂膜,该涂膜中之磁性粒子系藉由该磁场而定向,且各个片型磁铁间之接触部分之磁性粒子被定向成大体平行于该涂膜之正面,其中该复数个片型磁铁以使相邻片型磁铁之正面磁极互不相同,背面磁极亦互不相同,且各个片型磁铁之侧面彼此接触之方式排列,其中该涂料组合物进一步包含热塑性树脂、沸点范围为50℃或更高及100℃或更低之低沸点溶剂及沸点范围为高于100℃及200℃或更低之高沸点溶剂,且于常态下,将该涂料组合物涂覆于待涂装物品后20秒至60秒,涂料组合物之黏度为2,000 mPas至500,000 mPas,而涂覆后60秒与120秒之间之涂料组合物之黏度不低于100,000 mPas,且该涂料组合物于涂覆后60秒与120秒之间之黏度大于其涂覆后20秒至60秒之黏度。如申请专利范围第8项所述之方法,其特征在于该图样系由经磁场定向之磁性粒子所形成,该磁场系封闭于相邻片型磁铁之接触部分附近之各个片型磁铁之磁极间。如申请专利范围第8项或第9项所述之方法,其特征在于该封闭于该等相邻片型磁铁之磁极间之磁力线之极值位于该等相邻片型磁铁间之接触部分之上方。如申请专利范围第8项或第9项所述之方法,其特征在于该热塑性树脂为乙酸乙烯酯系树脂、丙烯酸系树脂或乙酸丁酸纤维素树脂。如申请专利范围第8项或第9项所述之方法,其特征在于该涂料组合物中之非挥发物含量为5质量%至15质量%。如申请专利范围第8项或第9项所述之方法,其特征在于该涂料组合物含有染料作为着色剂。如申请专利范围第8项或第9项所述之方法,其特征在于该物品为片型。如申请专利范围第8项或第9项所述之方法,其特征在于该涂膜之正面呈平坦状。如申请专利范围第8项或第9项所述之方法,其特征在于该高沸点溶剂含有沸点范围为高于100℃及150℃或更低之第一高沸点溶剂及沸点范围为高于150℃及200℃或更低之第二高沸点溶剂。
地址 日本;香港;台北县新庄市新树路483巷36号