| 主权项 |
一种处理在一光罩或倍缩光罩基材上一或多个倾斜特征之方法，该方法至少包含：将该光罩或倍缩光罩基材定位于一光罩握持器上，该光罩握持器系位于一光罩处理工具的一光罩台上；根据该光罩台的移动方向定义一预定的参考系统；将该光罩或倍缩光罩基材与该预定的参考系统对准；决定在该光罩或倍缩光罩基材上要被处理的一特征之一偏移(offset)角，该偏移角系关于该预定的参考系统的一第一参考方向或垂直于该第一参考方向的一第二参考方向而言；在一预定的方向上将该光罩或倍缩光罩基材旋转该偏移角度；以及依据该预定的参考系统处理在该光罩或倍缩光罩基材上之该特征，其中该特征在该预定的参考系统之水平或垂直参考方向上被处理。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该旋转步骤更包含将被对准的该光罩握持器旋转该偏移角度。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该旋转步骤更包含使用在该光罩台上一或多个栓，以栓住该光罩握持器。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该处理步骤更包含形成或修理在该光罩或倍缩光罩基材上的该特征。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该处理步骤更包含检查或验证在该光罩或倍缩光罩基材上的该特征。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该偏移角离该第一或第二参考方向45度。一种光罩处理系统，至少包含：一第一装置，用以依据一预定的参考系统接收一光罩或倍缩光罩基材；一第二装置，用以决定在该光罩或倍缩光罩基材上要被处理的一特征之一偏移角，该偏移角系关于该预定的参考系统的一水平或垂直参考方向而言；一第三装置，用以在一预定的方向上将该光罩或倍缩光罩基材旋转该偏移角度；一第四装置，用以依据该预定的参考系统处理在该光罩或倍缩光罩基材上之该特征，其中该特征在该预定的参考系统之该水平或垂直参考方向上被处理；以及一光罩或倍缩光罩基材确定方位监视次系统，用以监视该光罩或倍缩光罩基材的位置，该方位监视次系统包含：一光束产生器，用以产生一光束；一方位监视镜，附着于该第三装置，用以反射该光束；以及一检测器，用以根据该光束的反射角度来判断该光罩或倍缩光罩基材是否已旋转至该偏移角度。如申请专利范围第7项所述之处理系统，其中用以处理的该第四装置系为一光罩写入或修理工具、一度量衡工具、一验证工具或一检查工具。如申请专利范围第7项所述之处理系统，其中用以旋转的该第三装置更包含一可旋转的光罩握持器。如申请专利范围第7项所述之处理系统，其中用以接收的该第一装置更包含一光罩台，该光罩台的移动方向定义出该预定的参考系统。一种处理在一光罩或倍缩光罩基材上一或多个倾斜特征之方法，该方法至少包含：将该光罩或倍缩光罩基材定位于一可旋转的光罩握持器上，该光罩握持器系位于一光罩台上；根据该光罩台的移动方向定义一预定的参考系统；将该光罩或倍缩光罩基材与该预定的参考系统对准，以致于该光罩或倍缩光罩基材的至少一边系在该参考系统的一水平参考方向上；决定在该光罩或倍缩光罩基材上要被处理的一第一特征之一第一偏移角，该第一偏移角系关于该预定的参考系统的水平或垂直参考方向而言；在一预定的方向上将该光罩握持器旋转该第一偏移角度；以及依据该预定的参考系统处理在该光罩或倍缩光罩基材上之该第一特征，其中该第一特征在该预定的参考系统之水平或垂直参考方向上被处理。如申请专利范围第11项所述之方法，更包含：决定在该光罩或倍缩光罩基材上要被处理的一第二特征之一第二偏移角，该第二偏移角系关于该预定的参考系统的水平或垂直参考方向而言；旋转该光罩握持器达到基于该第一和第二偏移角之一欲得的方位；以及依据该预定的参考系统处理在该光罩或倍缩光罩基材上之该特征，其中该第二特征在该预定的参考系统之水平或垂直参考方向上被处理。如申请专利范围第11项所述之方法，更包含依据该预定的参考系统监视该光罩或倍缩光罩基材的位置。如申请专利范围第11项所述之方法，其中该旋转步骤更包含藉由使用在该光罩台上一或多个机械的栓而旋转该光罩握持器。如申请专利范围第11项所述之方法，其中该旋转步骤更包含藉由使用一光学的位置监视次系统而旋转该光罩握持器。一种光罩处理系统，至少包含：一光罩台，用以对准一光罩或倍缩光罩基材，其中该光罩或倍缩光罩基材的一边系平行于一预定的参考系统的一水平参考方向；一处理模组，用以决定在该光罩或倍缩光罩基材上要被处理的一特征之一偏移角，该偏移角系关于水平或垂直参考方向而言；一光罩握持器，用以在一预定的方向上将该光罩或倍缩光罩基材旋转该偏移角度；一光罩或倍缩光罩基材确定方位监视次系统，用以监视该光罩或倍缩光罩基材的位置，该方位监视次系统包含：一光束产生器，用以产生一光束；一方位监视镜，附着于该光罩握持器，用以反射该光束；以及一检测器，用以根据该光束的反射角度来判断该光罩或倍缩光罩基材是否已旋转至该偏移角度；以及一光罩处理模组，利用该预定的参考系统以处理在该光罩或倍缩光罩基材上之该特征，其中该特征在水平或垂直参考方向上被处理。如申请专利范围第16项所述之处理系统，其中该光罩台更包含一或多个确定方位监视次系统，以依据水平或垂直参考方向对准该光罩台。 |
