| 主权项 |
一种用于一有机薄膜沈积之坩埚组件，其包括：一体，其容纳用于沈积一有机薄膜之有机材料；及一帽盖，其被紧固至该体之上部，且具有一用于散开一气相有机材料之喷嘴，该喷嘴从该帽盖之顶部向下延伸。如申请专利范围第1项所述之坩埚组件，其中一隔板进一步提供于该体或该帽盖中。如申请专利范围第2项所述之坩埚组件，其中该隔板包括一在该喷嘴下方布置之防护部分，及一在该隔板上形成用于通过有机材料蒸汽之开口。如申请专利范围第3项所述之坩埚组件，其中该隔板藉由螺纹啮合被紧固至该体或该帽盖。如申请专利范围第3项所述之坩埚组件，其中该隔板被安装在一于该体之内壁处形成之支撑肩部上。如申请专利范围第5项所述之坩埚组件，其中该体进一步包括一从该支撑肩部向上延伸之延伸件，且该帽盖包括一在该帽盖之喷嘴外部形成、用于容纳该延伸件之凹槽。如申请专利范围第6项所述之坩埚组件，其中该体和该帽盖藉由螺纹啮合被紧固至该隔板之上部。如申请专利范围第7项所述之坩埚组件，其中在该体之上部之内侧和该帽盖之下部之外侧分别形成有一螺纹部分。如申请专利范围第1项所述之坩埚组件，其中在该帽盖之顶表面上形成有一环绕该喷嘴之凹面。如申请专利范围第9项所述之坩埚组件，其中一凹面以一圆形方式形成。如申请专利范围第1项所述之坩埚组件，其中该体进一步包括一在其顶部向内突出之肩部。如申请专利范围第1项所述之坩埚组件，其中该体进一步包括一从其内底部向上突出之传热部分。如申请专利范围第1项所述之坩埚组件，其中在该喷嘴之内部提供一屏蔽。如申请专利范围第13项所述之坩埚组件，其中该屏蔽之底部为锥形。如申请专利范围第13项所述之坩埚组件，其中该屏蔽之底部为圆形。 |
