发明名称 扫描投射装置
摘要
申请公布号 TWM389265 申请公布日期 2010.09.21
申请号 TW098214293 申请日期 2009.08.03
申请人 先进微系统科技股份有限公司 发明人 洪昌黎;林大为
分类号 G02B26/10 主分类号 G02B26/10
代理机构 代理人
主权项 一种扫描投射装置,包含:一光源,其用以产生一光束;一光束扫描器,其由一以第一频率振动之第一偏射轴(deflection axis)及一以第二频率振动之第二偏射轴来偏射(deflect)光束以扫描投射一二维影像区;一调变装置(modulation means)用以根据所投射之影像调变光束的强度;及一感应器,其设在实用影像区(active image field)之外且其感应区至少一部分系设在影像区之垂直向极端之内,使该感应器可用以侦测被偏射之光束;其中该光束在影像区之周边是被切掉(switched off)以形成一实用影像区供投射影像,并在该实用影像区外且靠近影像区之垂直向极端被启动以产生一扫描线以在每一影像框架(image frame)扫过一次感应器。如申请专利范围第1项所述之扫描投射装置,其中该光束系由复数条具有红、绿、蓝色波长之光束组成。如申请专利范围第1项所述之扫描投射装置,其中该光束扫描器之第一偏射轴(deflection axis)系以正弦曲线的(sinusoidal)运动来偏射光束。如申请专利范围第3项所述之扫描投射装置,其中该光束扫描器之第二偏射轴(deflection axis)系以正弦曲线的(sinusoidal)运动来偏射光束,且第一频率与第二频率之间的不同大于一阶大小(an order of magnitude)。如申请专利范围第3项所述之扫描投射装置,其中该光束扫描器系由一第二偏射轴(deflection axis)以锯齿(sawtooth)运动来偏射光束。如申请专利范围第1项所述之扫描投射装置,其中该感应器系一光电二极体(photodiode)。如申请专利范围第1项所述之扫描投射装置,其中该感应器系一双件式光电二极体(dual element photodiode)。如申请专利范围第1项所述之扫描投射装置,其中该感应器系设在该第一偏射轴(deflection axis)之扫描跨距(scan span)之中心及极端(extremes)以外的位置。如申请专利范围第1项所述之扫描投射装置,其中该感应器系设在其感应区边缘可对准于该第一偏射轴之光束扫描跨距之中心的位置。如申请专利范围第1项所述之扫描投射装置,其中该在实用影像区外产生的扫描线系被启动了等于或低于该第一偏射轴之扫描周期的一半时段以扫过该感应器。一种扫描投射装置,包含:一第一光源,其用以产生一第一光束;一第二光源,其用以产生一第二光束;一光束扫描器,其由一以第一频率振动之第一偏射轴及一以第二频率振动之第二偏射轴来偏射(deflect)第一、第二光束以分别扫描投射一第一及一第二之两个二维影像区;一调变装置(modulation means),其用以根据所投射之影像调变第一光束的强度以及用以根据所投射之影像调变第二光束的强度;及一感应器,其感应区至少一部分系设在第二影像区内且接近垂直向极端且在由第一光源所形成之实用影像区外,使该感应器可用以侦测被偏射之第二光束;其中该第一光束在影像区之周边是被切掉(switched off)以形成一实用影像区供投射影像,而该第二光束在靠近第二影像区之垂直向极端但在该实用影像区外是被启动(switched on)以产生一扫描线以在每一影像框架(image frame)扫过一次感应器。如申请专利范围第11项所述之扫描投射装置,其中该第一光源及第二光源是被校正以使该第一光束及第二光束可对该光束扫描器有不同的入射角。如申请专利范围第11项所述之扫描投射装置,其中该第一光束系由复数条具有红、绿、蓝色波长之光束组成。如申请专利范围第11项所述之扫描投射装置,其中该第二光束具有人眼看不见的波长。如申请专利范围第11项所述之扫描投射装置,其中该光束扫描器之第一偏射轴(deflection axis)系以正弦曲线的运动来偏射光束。如申请专利范围第15项所述之扫描投射装置,其中该光束扫描器之第二偏射轴(deflection axis)系以正弦曲线的运动来偏射光束,且第一频率与第二频率之间的不同大于一阶大小(an order of magnitude)。如申请专利范围第15项所述之扫描投射装置,其中该光束扫描器之第二偏射轴系以锯齿(sawtooth)运动来偏射光束。如申请专利范围第11项所述之扫描投射装置,其中该感应器系一光电二极体(photodiode)。如申请专利范围第11项所述之扫描投射装置,其中该感应器系一双件式光电二极体(dual element photodiode)。如申请专利范围第11项所述之扫描投射装置,其中该感应器系设在该第二光束由第一偏射轴(deflection axis)所偏射形成之扫描跨距(scan span)之中心及极端(extremes)以外的位置。如申请专利范围第11项所述之扫描投射装置,其中该感应器系设在其感应区边缘可对准于该第二光束由该第一偏射轴所偏射形成之扫描跨距(scan span)之中心的位置。如申请专利范围第11项所述之扫描投射装置,其中该在实用影像区外由第二光束产生的扫描线系被启动了等于或低于该第一偏射轴之扫描周期的一半时段以扫过该感应器。如申请专利范围第11项所述之扫描投射装置,其中该第一光源及第二光源系安排在光束扫描器的相对侧,其中该第一光束及第二光束系入射于光束扫描器之相对面。
地址 台北市内湖区瑞光路583巷24号4楼