发明名称 | 半导体晶片研磨装置用弹性膜 | ||
摘要 | 该外观设计产品的名称为半导体晶片研磨装置用弹性膜。该半导体晶片研磨装置用弹性膜也称作膜片,其用途为:在半导体等的制造中的晶片研磨工序中,安装在研磨装置的基板保持环内侧,从装置侧向本物品的侧面侧供给空气等气体,使膜面朝正面侧膨胀,将配置于正面侧的晶片的一面向研磨垫推压。该半导体晶片研磨装置用弹性膜的设计要点请参考各个视图所示的形状。最能表明设计要点的图片或者照片为第八页中的设计1的B部放大图。在各设计中,设计1为基本设计。另外,在各设计中,由于仰视图与俯视图对称,左视图与右视图对称,因此省略仰视图和左视图。 | ||
申请公布号 | CN301445758S | 申请公布日期 | 2011.01.19 |
申请号 | CN201030113730.5 | 申请日期 | 2010.02.26 |
申请人 | 株式会社荏原制作所 | 发明人 | 安田穗积;並木计介;福岛诚;锅谷治;斋藤康二;山木晓;井上智视;富樫真吾;户川哲二 |
分类号 | 15-99 | 主分类号 | 15-99 |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 徐冰冰;黄剑锋 |
主权项 | |||
地址 | 日本东京都 |