发明名称 化学机械研磨垫
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.02.11
申请号 TW093133682 申请日期 2004.11.04
申请人 JSR股份有限公司 发明人 宫内裕之;志保浩司;川桥信夫
分类号 B24B37/04 主分类号 B24B37/04
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种化学机械研磨垫,其具有一用于研磨一欲研磨物体之表面;一对置于该表面之非研磨面;一侧面,其系用于互连该等表面,并包含凹陷部分之图案,该等凹陷部分系形成于该非研磨面上且被敞开至该非研磨面但未被敞开至该侧面;及一圆形或多边形凹陷部分,其于该非研磨面之中心部分未形成图案。如请求项1之化学机械研磨垫,其中于该非研磨面上形成图案之该等凹陷部分系圆形、椭圆形、多边形或凹槽状。如请求项1之化学机械研磨垫,其进一步具有一区域,该区域在除该非研磨面之中心部分外的一部分中具有高透光性质。如请求项3之化学机械研磨垫,其中该具有高透光性质之区域系一在除该非研磨面之中心部分外的一部分中形成的凹陷部分。如请求项1之化学机械研磨垫,其包括一水不溶材料、及分散于该水不溶材料中之水溶性颗粒。
地址 日本