| 主权项 |
一种电路板显影电镀设备，适于对一曝光后之电路板进行显影及电镀制程，该电路板显影电镀设备包括：一显影单元；一水洗单元，连接该显影单元；一去氧化单元，连接该水洗单元；以及一电镀单元，连接该去氧化单元，其中该曝光后之电路板依序经由该显影单元、该水洗单元、该去氧化单元以及该电镀单元，而完成显影及电镀制程。如申请专利范围第1项所述之电路板显影电镀设备，更包括一第一正压装置，该第一正压装置连接该显影单元，用以提供一正压至该显影单元。如申请专利范围第1项所述之电路板显影电镀设备，更包括一第二正压装置，该第二正压装置连接该水洗单元，用以提供一正压至该水洗单元。如申请专利范围第1项所述之电路板显影电镀设备，更包括一第三正压装置，该第三正压装置连接该去氧化单元，用以提供一正压至该去氧化单元。如申请专利范围第1项所述之电路板显影电镀设备，更包括一第四正压装置，该第四正压装置连接该电镀单元，用以提供一正压至该电镀单元。如申请专利范围第1项所述之电路板显影电镀设备，更包括一检视单元，设置于该水洗单元与该去氧化单元之间。如申请专利范围第6项所述之电路板显影电镀设备，其中该检视单元为一人工检视单元或一自动光学检视单元。如申请专利范围第6项所述之电路板显影电镀设备，更包括一旁通输送单元，该旁通输送单元连接该检视单元，当检视电路板为一不良在制品时，该旁通输送单元可以隔离该不良在制品不进入该去氧化单元。如申请专利范围第8项所述之电路板显影电镀设备，更包括一暂存装置，该暂存装置连接该旁通输送单元，用以储存该不良在制品。如申请专利范围第6项所述之电路板显影电镀设备，更包括一第五正压装置，该第五正压装置连接该检视单元，用以提供一正压至该检视单元。如申请专利范围第6项所述之电路板显影电镀设备，更包括一除静电装置，该除静电装置连接该检视单元，用以去除该电路板上的静电。如申请专利范围第11项所述之电路板显影电镀设备，其中该除静电装置为一吹离子风装置。如申请专利范围第1项所述之电路板显影电镀设备，其中该去氧化单元包括一酸洗单元或一蚀刻单元。 |
