发明名称 流体止逆组件及具有该流体止逆组件之密封罐
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.06.11
申请号 TW100200118 申请日期 2011.01.04
申请人 原葆企业有限公司 发明人 苏育鋐
分类号 B65D25/00 主分类号 B65D25/00
代理机构 代理人 廖钲达 台中市西区台中港路1段160号34楼
主权项 一种密封罐,包含有一容器及一结合于容器顶部之盖体,其特征在于:盖体顶部设有至少一个透孔;以及一流体止逆组件,包括:一基座,系固设于该盖体内面,基座具有一隔板,隔板上方形成一隔离室与该透孔相通、至少一个穿孔设于隔板上且连通该隔离室与该容器内部,以及一个活动孔邻设于该穿孔,其中该隔板具有一厚度;一密封件,具有一凸条穿设该基座的活动孔,凸条具有一外径大于该活动孔直径的头部,相对设有该头部的另一端则延伸至该隔离室且连接一遮蔽该穿孔的挡片,挡片至该头部的距离大于该隔板的厚度。如请求项1所述之密封罐,其中该基座与该盖体内面之间设有至少一密封环。如请求项2所述之密封罐,其中该基座顶面凹设一环槽,该密封环容置于该环槽中,且密封环一侧与该盖体内面接触。如请求项1所述之密封罐,其中该流体止逆组件包括有一封盖,该封盖结合于该基座底部,且具有一容室与该基座的穿孔相通,以及至少一通孔连通该容室与容器内部。如请求项4所述之密封罐,其中该凸条具有头部的一端接近该封盖的通孔。如请求项1所述之密封罐,其中该盖体内面凹设一螺孔,该基座顶部具有一螺纹段锁入该螺孔中。如请求项1所述之密封罐,其中该容器顶部周缘环设有至少一道的凹沟;该盖体底部周缘环设有至少一道的凸垣与该凹沟配合。一种流体止逆组件,包括:一基座,具有一隔板且隔板上方形成一隔离室,隔离室与设于隔板上的至少一个穿孔连通,以及一个活动孔邻设于该穿孔,该隔板具有一厚度;一密封件,具有一凸条穿设该基座的活动孔,且凸条具有一外径大于该活动孔直径的头部,凸条相对设有该头部的另一端则延伸至该隔离室且连接一遮蔽该穿孔的挡片,挡片至该头部的距离大于该隔板的厚度。如请求项8所述之流体止逆组件,更包括有一封盖,该封盖结合于基座底部,且具有一容室与该基座的穿孔相通,以及至少一通孔连通该容室。如请求项9所述之流体止逆组件,其中该凸条具有头部的一端接近该封盖的通孔。
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