摘要 |
<p>L'invention concerne un procédé de calibrage d'instruments de mesure d'un système optronique en mouvement, de positions P1, P2 Pi, ..., ce système optronique comprenant : - un dispositif d'acquisition (10) d'images d'une scène comprenant un objet fixe G0 et, - des moyens de poursuite (15) de l'objet fixe Go au cours de l'acquisition de ces images, - des moyens d'obtention des positions (20) P1, P2, ... - au moins un instrument de mesure de la distance (25) et/ou un instrument de mesure d'angles d'orientation et/ou d'attitude (30) entre cet instrument de mesure et l'objet fixe Go, selon une ligne de visée LdV, Il comprend les étapes suivantes : - acquisition à des instants t1, t2, ... d'au moins deux images, chaque image étant acquise à partir de positions différentes P1, P2, ... du système, l'objet fixe Go étant visé dans chaque image, mais sa position étant inconnue, - acquisition aux instants t1, t2, ... de mesures de distance et/ou d'angle, - synchronisation des mesures de distance et/ou d'angle avec les positions P1, P2, ... établies à des instants t'1, t'2 - estimation des défauts de mesure qui minimisent la dispersion d'au moins deux points d'intersection Gij entre la LdV à la position Pi et la LdV à la position Pj, en fonction desdites mesures et des positions connues Pi, Pj du système.</p> |