发明名称 |
以密闭式结构增加通道密度之次微米平面高功率半导体元件 |
摘要 |
一种位于一半导体基底上之半导体功率元件,其包含有数个电晶体晶胞,而每一个晶胞具有一源极与一汲极区域,其系位于半导体基底上之一闸极区域的两侧。一闸极电极以一电极层方式形成于闸极区域上,以控制源极与汲极区域间的电流。位于该半导体基底上的闸极电极层被图案化为像波形状长条,以本质上增加源极与汲极区域间越过闸极的电流传导面积。 |
申请公布号 |
TWI359493 |
申请公布日期 |
2012.03.01 |
申请号 |
TW096122466 |
申请日期 |
2007.06.22 |
申请人 |
万里达半导体有限公司 美国 |
发明人 |
雪克 玛力卡勒强斯瓦密 |
分类号 |
H01L27/088;H01L29/78;H01L21/336 |
主分类号 |
H01L27/088 |
代理机构 |
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代理人 |
林火泉 台北市大安区忠孝东路4段311号12楼之1 |
主权项 |
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地址 |
美国 |