发明名称 以密闭式结构增加通道密度之次微米平面高功率半导体元件
摘要 一种位于一半导体基底上之半导体功率元件,其包含有数个电晶体晶胞,而每一个晶胞具有一源极与一汲极区域,其系位于半导体基底上之一闸极区域的两侧。一闸极电极以一电极层方式形成于闸极区域上,以控制源极与汲极区域间的电流。位于该半导体基底上的闸极电极层被图案化为像波形状长条,以本质上增加源极与汲极区域间越过闸极的电流传导面积。
申请公布号 TWI359493 申请公布日期 2012.03.01
申请号 TW096122466 申请日期 2007.06.22
申请人 万里达半导体有限公司 美国 发明人 雪克 玛力卡勒强斯瓦密
分类号 H01L27/088;H01L29/78;H01L21/336 主分类号 H01L27/088
代理机构 代理人 林火泉 台北市大安区忠孝东路4段311号12楼之1
主权项
地址 美国