发明名称 |
可变电阻元件、其制造方法及不挥发性半导体记忆装置 |
摘要 |
本发明提供一种可高速且低消耗电力动作之可变电阻元件。本发明之可变电阻元件系在第1电极11与第2电极12之间具有金属氧化物层10,且依据对于第1及第2电极间之电性应力之施加,而第1及第2电极间之电阻可逆性变化,且金属氧化物层10具有流经第1及第2电极间之电流之电流密度局部性变高之电流路径即细丝13,在第1电极与第2电极中之至少任一方之特定电极11与金属氧化物层10之界面,且至少包含特定电极11与细丝13之界面附近之一部分,具备包含于特定电极11之至少1个元素之氧化物,且与金属氧化物层10之氧化物相异之界面氧化物15。 |
申请公布号 |
TWI359494 |
申请公布日期 |
2012.03.01 |
申请号 |
TW097114522 |
申请日期 |
2008.04.21 |
申请人 |
夏普股份有限公司 日本;独立行政法人产业技术综合研究所 日本 |
发明人 |
玉井幸夫;岛久;秋永广幸;高野史好;细井康成;粟屋信义;大西茂夫;石原数也 |
分类号 |
H01L27/10;H01L27/105;H01L21/8247 |
主分类号 |
H01L27/10 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼;林宗宏 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |