蚀刻液、蚀刻方法及电子零件之制造方法

摘要

本发明提供一种蚀刻液，其特征在于，用于选择性地蚀刻氮化矽，且含有：水；第一液体，可藉由混合于上述水中而使混合液之沸点达150℃以上；以及第二液体，可生成质子(H＋)。或者，本发明提供一种蚀刻液，其特征在于，用于选择性地蚀刻氮化矽，含有水、磷酸及硫酸，且上述磷酸与上述硫酸之体积比为300：32~150：300。