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发明名称
高压装置之离子布值方法
摘要
一种高压装置之离子布值方法,此布值方法包含以下步骤:定义一逻辑区及一高压区于一半导体基板中,形成一第一闸极绝缘层于逻辑区中之半导体基板上且形成一第二闸极绝缘层于高压区中之半导体基板上,第二闸极绝缘层较之第一闸极绝缘层为厚,透过将第一导电杂质植入于半导体基板之逻辑区及源极区在逻辑区中形成一中空区且在高压区中形成一源极区,以及透过将第二导电杂质植入于半导体基板之逻辑区中在逻辑区中形成一第二导电杂质层。
申请公布号
TWI360841
申请公布日期
2012.03.21
申请号
TW096146874
申请日期
2007.12.07
申请人
东部高科股份有限公司 南韩
发明人
张德基
分类号
H01L21/265
主分类号
H01L21/265
代理机构
代理人
许世正 台北市信义区忠孝东路5段410号4楼
主权项
地址
南韩
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