发明名称 半导体晶片之制造方法
摘要 本发明提供一种制造一半导体晶片之方法,其包括在一光传输支撑上施加一光热转换层,但是在辐射能量之照射上,该光热转换层将该辐射能量转换成热且因热而分解;藉由将该电路表面及该光热转换层彼此相向放置,该半导体晶圆和该光传输支撑可经由一光固化黏着剂而予分层,藉此形成一在外侧具有一非电路表面之分层主体;研磨该半导体晶圆之该非电路表面直到该半导体晶圆达到所需厚度;从该非电路表面侧边切割该经研磨之半导体晶圆,并将其切成复数个半导体晶片;从该光传输支撑侧边照射辐射能量以分解该光热转换层,藉此导致分离成一具有该黏着剂层之半导体晶片及一光传输支撑;以及选择性地从该等半导体晶片移除该黏着剂层。
申请公布号 TWI360888 申请公布日期 2012.03.21
申请号 TW093134146 申请日期 2004.11.09
申请人 3M新设资产公司 美国 发明人 野田一树;岩泽优
分类号 H01L31/0248 主分类号 H01L31/0248
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 美国