发明名称 |
电子枪及电子束曝光装置 |
摘要 |
本发明目的在于提供一种提高亮度之电子枪及藉使用该电子枪,提高生产量之电子束曝光装置。本发明之电子枪系由六硼化镧(LaB6)或六硼化铈(CeB6)形成之电子源、抑制电极及加速电极构成者,前述电子源之前端部配置于前述抑制电极与前述加速电极间,且前述电子源具有电子放射区域及电子放射限制区域,而前述电子放射限制区域系前述电子源前端部之电子放射面以外之该电子源侧面,且被碳包覆。前述电子源之前端部可由直径为10μm~100μm之圆柱形状形成,且前述电子源之前端部可从前述电极上面突出2.5mm以上,并且电子源前端与加速电极之距离配置为5mm以下。 |
申请公布号 |
TWI362050 |
申请公布日期 |
2012.04.11 |
申请号 |
TW096150244 |
申请日期 |
2007.12.26 |
申请人 |
爱德万测试股份有限公司 日本;电气化学工业股份有限公司 日本 |
发明人 |
安田洋;原口岳士;照井良典;坂轮盛一;野野垣良三 |
分类号 |
H01J37/06 |
主分类号 |
H01J37/06 |
代理机构 |
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代理人 |
恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |