发明名称 处理装置、处理方法及记录媒体
摘要 可以简单构造保持处理容器之盖体,防止处理空间之环境泄漏至处理容器之外部。;形成在处理容器30之内部之处理空间83之外侧设置低压空间84。再者,具备密封处理容器本体80和盖体81之间,自处理空间83隔绝低压空间84之第一密封部101,和在比第一密封部101更外侧自处理容器30之外部隔断低压空间84之第二密封部102。在如此之构成中,藉由降低在第一密封部101和第二密封部102中执行密封之正常密封状态中之低压空间84之内压,成为在第二密封部102中执行密封之状态下,于第一密封部101产生泄漏之内侧泄漏状态之时,使处理空间83之内压对处理容器30之外部压力成为等压以下。
申请公布号 TWI362070 申请公布日期 2012.04.11
申请号 TW096144619 申请日期 2007.11.23
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 东岛治郎
分类号 H01L21/304;H01L21/027 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本