发明名称 角解析分光微影特性之方法及装置
摘要 对两束正交偏振光束在自一基板绕射时进行同时量测以确定该基板之性质。经由两个非偏振分光器,一非偏振分光器相对于另一非偏振分光器旋转90°,传递具有在正交方向上偏振之辐射之线性偏振光源。接着,组合光束在向回穿过一非偏振分光器之前自一基板绕射,且在由一CCD照相机量测之前穿过一移相器及一Wollaston棱镜。以此方式,可藉此量测该两个偏振光束之多个相位步进之相位及强度,且可确定该等光束之偏振状态。若将该移相器调为零(亦即,不具有相移),则该基板之格栅使其参数藉由同一侦测器系统同时藉由TE及TM偏振光而得以量测。
申请公布号 TWI362570 申请公布日期 2012.04.21
申请号 TW096121660 申请日期 2007.06.15
申请人 ASML荷兰公司 荷兰 发明人 安东尼 盖斯顿 马利 凯尔斯;艾瑞 杰佛瑞 丹 伯夫;史蒂芬 卡卢司 贾可布 安东尼 凯基
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 荷兰