光蚀印基板的温度控制方法

摘要

本发明提供一种处理光蚀印基板的方法，包含将光蚀印基板放置在处理室内的支撑构件上，其中光蚀印基板的初始温度大约为摄氏零度到大约摄氏五十度之间。一热量转移流体被引入处理室中以便将光蚀印基板冷却到大约低于摄氏零度到大约低于摄氏零下四十度的目标温度。经过冷却处理的光蚀印基板在其温度到达初始温度之前将先经过电浆处理。