发明名称 晶圆研磨装置晶圆研磨系统及晶圆研磨方法
摘要 〔课题〕;能以高的吞吐量实施1阶段研磨或多阶段研磨,实现装置整体紧密化以缩小占有面积。;〔解决手段〕;具备分别设置于2个平台21、22之第1晶圆保持头26及第2晶圆保持头27,且于2个平台21、22之间配设载置晶圆的晶圆移载装置23。分别藉第1移动手段33、第2移动手段34使前述2个晶圆保持头26、27在2个平台21、22与晶圆移载装置23之间移动。而且,藉由支撑2个移动手段33、34之旋转移动手段35使2个晶圆保持头26、27分别从一方的平台21或22到他方的平台22、21仅旋转移动180度,藉此实施2阶段研磨。
申请公布号 TWI362698 申请公布日期 2012.04.21
申请号 TW097108945 申请日期 2008.03.14
申请人 日本东京精密股份有限公司 日本 发明人 足立祯
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人 黄长发 台北市大安区忠孝东路4段250号11楼之6
主权项
地址 日本