发明名称 |
蚀刻组成物 |
摘要 |
本发明系有关一种蚀刻组成物,其系用以于薄膜电晶体液晶显示装置透明导电膜(ITO膜)之选择性蚀刻者,特别是关于一种薄膜电晶体液晶显示装置之蚀刻组成物,其系包含有盐酸、醋酸、添加剂以及超纯水,且其经时变化少,对其它金属配线的影响最小而可稳定地进行蚀刻,并且具有快速的蚀刻速度,可减少侧边蚀刻者。 |
申请公布号 |
TWI364072 |
申请公布日期 |
2012.05.11 |
申请号 |
TW094105805 |
申请日期 |
2005.02.25 |
申请人 |
东进世美肯有限公司 南韩 |
发明人 |
李骐范;曹三永;李敏键;申贤哲 |
分类号 |
H01L21/306;G02F1/1368;H01L21/3205;H01L21/3213 |
主分类号 |
H01L21/306 |
代理机构 |
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代理人 |
恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼 |
主权项 |
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地址 |
南韩 |