发明名称 蚀刻组成物
摘要 本发明系有关一种蚀刻组成物,其系用以于薄膜电晶体液晶显示装置透明导电膜(ITO膜)之选择性蚀刻者,特别是关于一种薄膜电晶体液晶显示装置之蚀刻组成物,其系包含有盐酸、醋酸、添加剂以及超纯水,且其经时变化少,对其它金属配线的影响最小而可稳定地进行蚀刻,并且具有快速的蚀刻速度,可减少侧边蚀刻者。
申请公布号 TWI364072 申请公布日期 2012.05.11
申请号 TW094105805 申请日期 2005.02.25
申请人 东进世美肯有限公司 南韩 发明人 李骐范;曹三永;李敏键;申贤哲
分类号 H01L21/306;G02F1/1368;H01L21/3205;H01L21/3213 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项
地址 南韩