发明名称 |
贴合SOI晶圆之制造方法及藉由该方法制造之贴合SOI晶圆 |
摘要 |
本发明系提供一种贴合SOI晶圆之制造方法,其系于贴合前的晶圆表面,在有机物存在的状态下进行贴合,于贴合界面,封入该有机物的状态下藉由进行接合强化热处理,使贴合界面形成结晶缺陷后制造贴合SOI晶圆,如此可于SOI层与绝缘体层(氧化膜)的界面简单地且廉价地形成除气源。而且,藉由该方法所制造之本发明的贴合SOI晶圆,可有效地除去对于元件特性、氧化膜耐压特性有不良影响之重金属杂质。所以,本发明的制造方法及本发明的贴合SOI晶圆,可广泛地利用作为元件特性佳之SOI晶圆或其制造方法。 |
申请公布号 |
TWI364059 |
申请公布日期 |
2012.05.11 |
申请号 |
TW096125426 |
申请日期 |
2007.07.12 |
申请人 |
上睦可股份有限公司 日本 |
发明人 |
池田安伸;富田真一;宫原浩幸 |
分类号 |
H01L21/02;H01L27/12;H01L21/322 |
主分类号 |
H01L21/02 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |