发明名称 贴合SOI晶圆之制造方法及藉由该方法制造之贴合SOI晶圆
摘要 本发明系提供一种贴合SOI晶圆之制造方法,其系于贴合前的晶圆表面,在有机物存在的状态下进行贴合,于贴合界面,封入该有机物的状态下藉由进行接合强化热处理,使贴合界面形成结晶缺陷后制造贴合SOI晶圆,如此可于SOI层与绝缘体层(氧化膜)的界面简单地且廉价地形成除气源。而且,藉由该方法所制造之本发明的贴合SOI晶圆,可有效地除去对于元件特性、氧化膜耐压特性有不良影响之重金属杂质。所以,本发明的制造方法及本发明的贴合SOI晶圆,可广泛地利用作为元件特性佳之SOI晶圆或其制造方法。
申请公布号 TWI364059 申请公布日期 2012.05.11
申请号 TW096125426 申请日期 2007.07.12
申请人 上睦可股份有限公司 日本 发明人 池田安伸;富田真一;宫原浩幸
分类号 H01L21/02;H01L27/12;H01L21/322 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本