| 摘要 |
一种用于处理工件(例如遮罩或晶圆)的电浆反应器，其包括一真空腔室，该真空腔室具有圆柱形侧壁，顶以及环，其中该顶在侧壁之上，该环则被支撑在侧壁的顶边缘上，并且该环支撑顶部，该环包括外表面和内表面。射频(RF)电浆源功率施加器，和耦合至该施加器的RF源功率发生器，用以提供电浆源功率。多个通道在径向方向上延伸，且从外表面到内表面贯穿圆环，并沿着圆环的周长间隔设置。处理气体供应提供处理气体。腔室外部的外部气流管道则沿腔室周边延伸，并与处理气体供应耦合。腔室外部的多个外部气流阀沿着管道在分隔的每个位置处，与外部管道耦合，每个阀具有：(a)可控气体输出口，其在环的外表面处，分别与多个管道之一耦合，以及(b)阀控制输入。气阀配置控制器控制每个阀的阀控制输入。 |
