基板处理装置与方法

摘要

本发明涉及一种用于蚀刻晶片顶部边缘与底部的装置。该装置包含用于支撑晶片的基板支撑部分和可移动的保护部分，该保护部分用于防止蚀刻用液体流入晶片的非蚀刻部分。晶片的顶部边缘与底部通过湿蚀刻方式蚀刻，而非蚀刻部分的边界与晶片的边缘则通过乾蚀刻方式蚀刻。