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Procedimiento de formación de un revestimiento de un grosor inferior o igual a 200 nm y de unadureza superior o igual a 20 GPa, de un material de estructura nanocompuesta a base de titanio, de zirconio, deboro y de nitrógeno, sabre un soporte (6) caracterizado porque comprende las siguientes etapas:a) depósito par pulverización catódica can magnetr6n de una capa (7) de titanio, sabre al menos una superficiede un soporte (6) a una presión parcial de argón de 1 Pa,b) depósito par pulverización catódica can magnetrón de una capa (8) de nitruro de titanio, sabre la capa (7)obtenida en la etapa a) mediante introducción de nitrógeno en el recinto de pulverización catódica (1) mientras semantiene una presi6n parcial de 1 Pa,c) depósito de una capa (9) de un material compuesto nanoestructurado a base de titanio, de zirconio, de boro yde nitrógeno sabre la capa (8) obtenida en la etapa b) mediante pulverización catódica con magnetr6n en modode co-pulverización activa mediante aplicación de una potencia X sabre una diana 3 que es fuente de titanio y deuna potencia Y sabre una diana 2 que es fuente de ZrB2, estando la relación X/Y comprendida entre 3/5 y 5/3ambos inclusive, e inyecci6n simultanea de una mezcla gaseosa compuesta par argón y par nitrógeno,representando el nitr6geno al menos el 10 % en volumen, del volumen total de la mezcla gaseosa, mientras semantiene una presi6n parcial de 1 Pa y aplicando un voltaje de polarización de - 300 V, en el recinto depulverización catódica (1).
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