| 主权项 |
一种基板处理装置，其系藉由搬送室内之基板搬送机构，从载置于搬出入埠之承载器内取出基板而交接给处理模组，在该处理模组内施行基板之处理者，其中包含：基板保管室，其系以连通于该搬送室之方式经由搬送口而连接于前述搬送室之外侧，且与前述承载器为分别设置；第1保管架，其系设于前述基板保管室，用以于形成有净化气体之气流之氛围中保管复数基板，该净化气体之气流系用以吹掉经前述处理模组处理后之基板上之反应生成物；第2保管架，其系设于前述基板保管室，用以保管复数虚设(dummy)基板；及移动机构，其系为使自前述第1保管架及第2保管架中选出之保管架之基板保管区域位于可在与前述基板搬送机构之间经由前述搬送口交接基板之位置，而移动该第1保管架及第2保管架，其中前述基板保管室中形成有排气口，藉由自该排气口将净化气体排气而于第1保管架之基板保管区域中形成净化气体之气流，且该流经第1保管架之基板保管区域之净化气体之气流被引导至流向前述第2保管架之基板保管区域之外侧。如请求项1之基板处理装置，其中在前述处理模组中，于真空氛围下前述复数基板之至少一片被处理；前述搬送室系包含：常压氛围之常压搬送室，其系连接于搬出入埠，具有第1基板搬送机构；及真空搬送室，其系介在前述常压搬送室与前述处理模组之间，具有第2基板搬送机构；前述基板保管室系连接至前述常压搬送室。如请求项1之基板处理装置，其中前述第1保管架及前述第2保管架系互相配置于上下方，前述移动机构系构成为可使前述第1保管架及前述第2保管架升降。如请求项3之基板处理装置，其中前述移动机构系构成为可使前述第1保管架及第2保管架独立地升降。如请求项3之基板处理装置，其中前述移动机构系构成为可使前述第1保管架及第2保管架连动地升降。如请求项1之基板处理装置，其中前述第1保管架及第2保管架由前述搬送口看时系于左右方向配置成直线状，前述移动机构系构成为可使前述第1保管架及第2保管架向左右方向移动。如请求项1之基板处理装置，其中前述第1保管架及第2保管架系沿着垂直轴之周围配置于在前述垂直轴周围旋转之旋转构件，前述移动机构系构成为可使前述旋转构件旋转。一种基板处理方法，其系藉由搬送室内之基板搬送机构，从载置于搬出入埠之承载器内取出基板而交接给处理模组，在该处理模组内施行基板之处理者，其中包含以下步骤：藉由移动机构使以连通于该搬送室之方式经由搬送口而连接于前述搬送室之外侧、且与前述承载器为分别设置之基板保管室内之第1保管架，位于其基板保管区域面对于前述搬送口之位置；其次，藉由前述基板搬送机构，从前述搬送室内经由前述搬送口将基板交接给前述第1保管架，且于形成有净化气体之气流之氛围中保管基板，该净化气体之气流系用以吹掉经前述处理模组处理后之基板上之反应生成物；藉由移动机构使前述基板保管室内之第2保管架位于其基板保管区域面对于前述搬送口之位置；其次，藉由前述基板搬送机构，从前述搬送室内经由前述搬送口将虚设基板交接给前述第2保管架，以保管虚设基板；及藉由自形成于基板保管室之排气口将净化气体排气而于第1保管架之基板保管区域中形成净化气体之气流，且该流经第1保管架之基板保管区域之净化气体之气流被引导至流向前述第2保管架之基板保管区域之外侧。一种电脑可读取之记忆媒体，其系储存有在藉由搬送室内之基板搬送机构，从载置于搬出入埠之承载器内取出基板而交接给处理模组，在该处理模组内施行基板处理之基板处理装置中，使用于基板搬送装置之程式者，其中前述程式中排入有用以执行如请求项8之基板处理方法之步骤。 |
