| 主权项 |
一种消光组成物，其包含：(a)改质黏土，及(b)至少一种选自下式(III)及式(IV)之丙烯酸酯单体：@sIMGTIF!d10001.TIF@eIMG!其中R2及R3系各自独立为C1-C8伸烷基、C1-C8伸烷氧基或C3-C8伸环烷基；G6系为氢、苯基或C1-C4烷基；Y2及Y3系各自独立为氢或C1-C3烷基；n系为选自0至17之整数；及x、y及z为之整数，且x+y+z之和介于0至15；其中该(a)改质黏土之含量以该消光组成物之总重量计，为至少0.5重量%。如请求项1之组成物，其中该式(III)单体系具式(III1)：@sIMGTIF!d10002.TIF@eIMG!其中Y2'各自独立为氢或甲基；n'为选自2至5之整数；X1及X2各自独立为氢或甲基。如请求项1之组成物，其中该式(IV)单体系具式(IV1)：@sIMGTIF!d10003.TIF@eIMG!其中Y3'各自独立为氢或甲基；x'+y'+z'之和介于3至7；X3及X4各自独立为氢或甲基；G6'为氢或乙基。如请求项1之组成物，进一步包含式(V)之丙烯酸酯单体：@sIMGTIF!d10004.TIF@eIMG!其中R4系为C1-C8伸烷基、C1-C8伸烷氧基或C3-C8伸环烷基；Y4系为氢或C1-C3烷基；Y5系为氢、苯基或C1-C4烷基；m系为选自0至17之整数。如请求项4之组成物，其中该式(V)单体式系具式(V1)：@sIMGTIF!d10005.TIF@eIMG!其中Y5'为甲基或异丙基；Y4'为氢或甲基；m'为选自6至12之整数。如请求项1之消光组成物，其中(a)的含量以该消光组成物之总重量计，为1重量%至35重量%。如请求项1之消光组成物，其中(a)的含量以该消光组成物之总重量计，为5重量%至15重量%。如请求项1之消光组成物，其中该改质黏土系将四级铵阳离子与一黏土进行阳离子交换而制备。如请求项8之消光组成物，其中该四级铵阳离子包含下式(I)之四级铵阳离子、下式(II)之四级铵阳离子或其混合物：@sIMGTIF!d10006.TIF@eIMG!其中G1、G2及G3系各自独立为氢或C1-C3烷基，G4为C1-C22烷基，G5为乙烯系不饱和基。如请求项9之消光组成物，其中该式(II)中之G5系选自于乙烯基、丙烯基、甲基丙烯基、正丁烯基、异丁烯基、乙烯基苯基、丙烯基苯基、丙烯氧基甲基、丙烯氧基乙基、丙烯氧基丙基、丙烯氧基丁基、丙烯氧基戊基、丙烯氧基己基、甲基丙烯氧基甲基、甲基丙烯氧基乙基、甲基丙烯氧基丙基、甲基丙烯氧基丁基、甲基丙烯氧基戊基、甲基丙烯氧基己基及@sIMGCHAR!d10032.TIF@eIMG!，其中R1为伸苯基、未经取代之C1-C6伸烷基、经一至三个羟基取代之C1-C6伸烷基、C2-C8伸烯基或C3-C8伸环烷基，Y1为氢或甲基。如请求项9之组成物，其中该式(II)系具式(II1)@sIMGTIF!d10008.TIF@eIMG!其中G1、G2及G3为甲基；Y1为氢或甲基；且R1为伸乙基、伸丙基或2-羟基伸丙基。如请求项9之组成物，其中该四级铵阳离子包含式(I1)之四级铵阳离子及式(II2)之四级铵阳离子：@sIMGTIF!d10007.TIF@eIMG!其中w为15至17之整数。如请求项8之消光组成物，其中该黏土具有介于80~240毫克当量(meq)/100克黏土的阳离子交换能力。如请求项8之消光组成物，其中该黏土为蒙脱土(Montmorillonite)、高岭土(Kaolinite)、皂石(Saponite)、锂膨润石(Hectorite)、厄帖浦土(Attapulgite)、伊莱石(Illite)、云母(Mica)、或绿泥石(Chlorite)。如请求项1之消光组成物，其中该改质黏土之平均粒径系介于约1至约12微米之间。如请求项1之消光组成物，其中该改质黏土的层间距为8~100。一种制备如请求项1之消光组成物之方法，其包含：(a)以选自由如请求项9之式(I)之四级铵阳离子、式(II)之四级铵阳离子或其混合物所组成之群之四级铵阳离子改质处理黏土，以制得一改质黏土；及(b)将步骤(a)所制得之改质黏土与至少一种选自如请求项1之式(III)及式(IV)之丙烯酸酯单体所组成之群之丙烯酸酯单体混合，制得一消光组成物。如请求项17之一种制备如请求项1之消光组成物之方法，其中步骤(b)为将步骤(a)所制得之改质黏土与至少一种选自如请求项1之式(III)及式(IV)之丙烯酸酯单体所组成之群之丙烯酸酯单体及如请求项4之式(V)之丙烯酸酯单体混合，制得一消光组成物。一种包含如请求项1至16之消光组成物之涂料。如请求项19之涂料，其中该涂料为辐射固化树脂涂料。 |
