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发明名称
曝光装置及图形形成方法
摘要
一种以雷射光相对玻璃基板扫描的曝光光学系统,直接在该玻璃基板上曝光功能性图形的曝光设备,在玻璃基板传送方向上雷射光扫描位置的前方具有摄像位置,撷取玻璃基板上预先形成黑色矩阵的画素影像的摄像装置,照明黑色矩阵的画素让摄像装置可以撷取影像的照明装置,检出摄像装置所撷取影像上的预设基准位置,以该基准位置作为基准控制雷射光照射开始或停止的控制装置。因此,可以提高功能性图形的对位精度同时抑制曝光设备的成本增加。
申请公布号
TWI386762
申请公布日期
2013.02.21
申请号
TW094116803
申请日期
2005.05.24
申请人
威技研股份有限公司 日本
发明人
伊藤三好
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
郑再钦 台北市中山区民生东路3段21号10楼
主权项
地址
日本
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