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发明名称
藉酸性溶液进行矽电极组件表面去污作用
摘要
本发明系关于清洗电极组件之矽表面的方法,其系藉使用包含氢氟酸、硝酸、醋酸,及平衡去离子水之酸性溶液自该等矽表面有效地移除污染物且不会使该等矽表面褪色。
申请公布号
TWI386984
申请公布日期
2013.02.21
申请号
TW094146415
申请日期
2005.12.23
申请人
蓝姆研究公司 美国
发明人
石洪;黄拓川;周春红
分类号
H01L21/30
主分类号
H01L21/30
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
美国
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