用于制造ＳｉＯ2光阻层之组合物及其使用方法

摘要

本发明系关于组合物，其适用于在半导体装置制造过程中产生图案化或结构化SiO2层或SiO2线，且适用于喷墨操作中之应用。本发明亦关于一种利用此等新颖组合物制造半导体装置之经改良方法。