涂布显影装置及涂布显影装置之操作方法与记忆媒体

摘要

本发明之课题在于提供一种技术，于适用在浸液曝光之涂布、显影装置中，可于不会对正常基板之处理效率形成不良影响的状态下，将未适当涂布保护膜的基板回收；且可达成保护膜之去除作业简便化。;为解决上述课题，本发明之涂布、显影装置中，针对未适当涂布对于浸液曝光之保护膜的异常基板，系不送入曝光部而使其在待机模组待机，又，于前一顺序之基板从曝光部被送出，并送入指定模组例如显影前之加热模组后，将该异常基板送入该指定模组，而不影响所谓计画输送，同时进行控制，俾于也针对异常基板实行保护膜去除单元之处理。