施行晶圆均匀度控制之动态量测取样

摘要

本发明提供一种晶圆之处理方法，包括：使用针对该晶圆所测量的量测资料，建立一前处理测量舆图，包括：针对于该晶圆上之至少一孤立状结构的量测资料，针对该晶圆上至少一巢状结构的量测资料，或遮罩资料。针对该晶圆，至少计算一前处理预测舆图。针对该晶圆，计算一前处理信赖度舆图。该前处理信赖度舆图，包括针对该晶圆上的该多数晶粒的一组信赖度资料。当针对一个或一个以上晶粒之信赖度资料未落于该信赖度界限内，则决定一优先的测量位置。接着，产生包括该优先的测量位置之新的测量配方。