发明名称 |
中空二氧化硅的喷烧装置 |
摘要 |
本实用新型提供一种中空二氧化硅的喷烧装置,以解决目前缺少制备中空二氧化硅使用的喷烧设备的问题,涉及硅材料及材料改性生产设备领域,该装置包括相互连接的喷烧部分和集料部分,所述喷烧部分包括一端设置有物料出口的喷烧腔,所述喷烧腔与物料出口相对的一端设置有喷烧器,喷烧器中部设置了进料通道;所述集料部分下端设置出料口。本实用新型提供的中空二氧化硅的喷烧装置,结构设计简单,使用方便,适用于制备中空二氧化硅,中空二氧化硅等中空粉体材料通过喷烧器向上喷烧或水平方向喷烧,便于比重较小的中空二氧化硅收集。 |
申请公布号 |
CN202945066U |
申请公布日期 |
2013.05.22 |
申请号 |
CN201220637596.2 |
申请日期 |
2012.11.28 |
申请人 |
蚌埠鑫源石英材料有限公司 |
发明人 |
蒋学鑫;蒋玉楠 |
分类号 |
C01B33/12(2006.01)I |
主分类号 |
C01B33/12(2006.01)I |
代理机构 |
安徽信拓律师事务所 34117 |
代理人 |
娄尔玉 |
主权项 |
一种中空二氧化硅的喷烧装置,其特征在于:该装置包括相互连接的喷烧部分和集料部分,所述喷烧部分包括一端设置有物料出口的喷烧腔,所述喷烧腔与物料出口相对的一端设置有喷烧器,喷烧器中部设置了进料通道;所述集料部分下端设置出料口。 |
地址 |
233400 安徽省蚌埠市怀远县怀远经济开发区迎淮路 |