发明名称 一种ONO反熔丝单元结构及其制备方法
摘要 本发明涉及一种ONO反熔丝单元结构及其制备方法,属于微电子的技术领域。按照本发明提供的技术方案,所述ONO反熔丝单元结构,包括下电极板,所述下电极板包括衬底,所述衬底的上部设有场氧及N+扩散区;所述N+扩散区的正上方设置贯通注入掩蔽层及腐蚀掩蔽层的反熔丝孔,所述注入掩蔽层覆盖衬底上部的N+扩散区及场氧上,腐蚀掩蔽层覆盖于注入掩蔽层上;所述腐蚀掩蔽层上设置ONO介质层,所述ONO介质层覆盖在腐蚀掩蔽层上,并填充在反熔丝孔内,ONO介质层与反熔丝孔底部的N+扩散区接触,ONO介质层上覆盖有上电极板。本发明工艺步骤简单,能改善熔丝单元击穿电压的均匀性,降低编程时间和编程后熔丝导通电阻,工艺兼容性好,安全可靠。
申请公布号 CN103151332A 申请公布日期 2013.06.12
申请号 CN201310097579.3 申请日期 2013.03.25
申请人 中国电子科技集团公司第五十八研究所 发明人 刘国柱;徐静;陈正才;洪根生;王栋;罗静
分类号 H01L23/525(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I 主分类号 H01L23/525(2006.01)I
代理机构 无锡市大为专利商标事务所 32104 代理人 殷红梅
主权项 一种ONO反熔丝单元结构,包括下电极板,所述下电极板包括衬底(11),所述衬底(11)的上部设有场氧(12)及N+扩散区(13);其特征是:所述N+扩散区(13)的正上方设置贯通注入掩蔽层(14)及腐蚀掩蔽层(15)的反熔丝孔(20),所述注入掩蔽层(14)覆盖衬底(11)上部的N+扩散区(13)及场氧(12)上,腐蚀掩蔽层(15)覆盖于注入掩蔽层(14)上;所述腐蚀掩蔽层(15)上设置ONO介质层,所述ONO介质层覆盖在腐蚀掩蔽层(15)上,并填充在反熔丝孔(20)内,ONO介质层与反熔丝孔(20)底部的N+扩散区(13)接触,ONO介质层上覆盖有上电极板(19)。
地址 214035 江苏省无锡市滨湖区惠河路5号58所先进封装技术研究室