一种防水性激光薄膜的制备方法

摘要

本发明涉及一种防水性激光薄膜的制备方法，根据实际应用中要求，即正入射800nm泵浦光透射、背入射1064nm基频光反射，采用采用真空电子束蒸发沉积工艺制备HfO2和SiO2膜层，作为背入射时靠近基板电场大、易损伤的膜层，以获得较高的抗激光损伤阈值；针对水冷系统的工作环境，对于靠近水侧、易被渗透侵蚀的膜层，采用离子束辅助沉积工艺制备Ta2O5和SiO2膜层，改善薄膜微观结构，获得较高的堆积密度，实现良好的防水性能；高低折射率材料HfO2、Ta2O5和SiO2交替沉积为多层膜，控制每层的光学厚度，以获得所需的光谱特性。该方法能很好的兼顾这三种特性，使其能应用于二极管泵浦固体激光器系统钕玻璃基板上，使之能在水冷系统中正常工作，并且具有良好的抗激光损伤性能和系统所需的光谱性能。

主权项

1.一种防水性激光薄膜的制备方法，其特征在于具体步骤如下：(1)、选取所需的光谱，其中：正入射光谱波段为720-930nm，背入射光光谱波段为1034-1094nm；(2)．将钕玻璃基板用超声波清洗，然后用干燥氮气吹干；(3)．对真空镀膜机进行反复擦拭和真空抽气；(4)．将钕玻璃基板放入真空镀膜机的样品架中，关闭真空舱舱门，静止10分钟后再进行真空抽气；(5)．本底真空度抽至1×10Pa，将钕玻璃基板加热至200摄氏度，恒温50分钟；(6)．镀膜开始前，先用离子源对钕玻璃基板表面进行3分钟清洗；(7)．采用真空电子束蒸发工艺制备最靠近基板的HfO₂和SiO₂膜层，采用离子束辅助沉积工艺制备靠近冷却水侧的Ta₂O₅和SiO₂膜层；(8)．镀膜结束后样品在真空室缓慢退火并老化12小时，即得所需的防水性激光薄膜。