| 发明名称 |
组成物及其制造方法、多孔性材料及其形成方法、层间绝缘膜、半导体材料、半导体装置、与低折射率表面保护膜 |
| 摘要 |
本发明提供一种组成物，包含：烷氧基矽烷化合物之水解物、以下述通式(1)表示之矽氧烷化合物之水解物、界面活性剂，及电负度为2.5以下之元素。通式(1)中，RA及RB各自独立，表示氢原子、苯基、-CaH2a+1基、-(CH2)b(CF2)cCF3基或-CdH2d-1基；惟，RA及RB不同时为氢原子。RC及RD表示将矽原子与氧原子相互连结形成环状矽氧烷构造之单键，或各自独立表示氢原子、苯基、-CaH2a+1基、-(CH2)b(CF2)cCF3基或-CdH2d-1基；a表示1~6之整数，b表示0~4之整数，c表示0~10之整数，d表示2~4之整数，n表示3以上之整数。;(1) |
| 申请公布号 |
TWI401296 |
申请公布日期 |
2013.07.11 |
| 申请号 |
TW098111001 |
申请日期 |
2009.04.02 |
| 申请人 |
三井化学股份有限公司 日本 |
发明人 |
高村一夫;田中博文 |
| 分类号 |
C08L83/04;C08J9/28;C09D5/25;C09D7/12;C09D183/04;H01L21/312;H01L21/768;H01L23/522 |
主分类号 |
C08L83/04 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 |
| 主权项 |
|
| 地址 |
日本 |
