发明名称 |
用于监视与控制光阻分散系统之倒吸量的设备及方法 |
摘要 |
监视一分配喷嘴中半导体处理流体介面的位置的设备包括:一延伸光源,其用以提供沿着一光学路径行进的光束。光束的特征在于以对准一分配方向之第一方向测量的路径宽度。此设备还包括:一光学侦测器,其耦接光学路径且用来侦测至少部分光束;以及一分配喷嘴,其沿着光学路径设在延伸光源与光学侦测器之间的一地点。此设备更包括:一喷嘴定位构件,其耦接分配喷嘴且以第一方向转移分配喷嘴。 |
申请公布号 |
TWI403454 |
申请公布日期 |
2013.08.01 |
申请号 |
TW096129691 |
申请日期 |
2007.08.10 |
申请人 |
数独股份有限公司 日本 |
发明人 |
波拉斯艾莉卡R. PORRAS, ERICA R. US;拉马南那塔罗杰 |
分类号 |
B67D7/08;G01B11/14 |
主分类号 |
B67D7/08 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |