| 摘要 |
本发明旨在提供一种光阻涂布显影装置及光阻涂布显影方法，可避免制程蒙气之污染，并同时高效率地减低光阻图案之线宽粗糙度。;其中光阻涂布显影装置1包含：光阻膜形成部，在基板W上涂布光阻以形成光阻膜；光阻显影部18，使经曝光之光阻膜显影；溶剂气体产生部，产生含有对光阻膜具有溶解性之溶剂蒸气或气体之气体；溶剂气体调整部，调整藉由气体产生部产生之气体；处理室62，收纳有具有于光阻显影部18显影而图案化之光阻膜之基板，可维持减压状态，其中包含气体供给部，以对经收纳之基板W供给藉由溶剂气体调整部调整之气体；及排气部，使处理室排气至减压状态。 |
