电浆处理装置之基板支撑台

摘要

本发明系提供一种以较高温度稳定地控制基板之电浆处理装置之基板支撑台。;该基座支持台系具有：静电吸附板14，其内藏用于静电性吸附基板W之第1电极、用于对基板W施加偏压之第2电极，及用于加热基板之加热器；筒状突缘13，其系焊接于静电吸附板14之下面，包含具有与静电吸附板14同等之热特性之合金而构成；及支持台10，其系于与突缘13之下面相对之面具有O型环12，介以O型环12而安装突缘13；且，于改变施加于基板W之偏压功率时，改变加热基板W之加热功率，以使基板W之温度保持恒定。