光阻清洗剂

摘要

本发明系揭露一种光阻清洗剂，包含二甲基亚碸、季铵氢氧化物以及含羟基聚醚类表面活性剂。含有含羟基聚醚的光阻清洗剂对于金属、金属合金或电介质基材上的光阻(光阻剂)和其它残留物具有良好的清洗能力，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。