感测器的校正方法、曝光方法、曝光装置、元件制造方法以及反射式罩幕

摘要

本发明提供一种曝光装置，经由投影光学系统使反射式罩幕之图案于感光性基板上曝光时，可对感光性基板上的曝光量进行高精度控制。上述曝光装置包括：第1感测器(4)，对自照明系统(1、2)入射至反射式罩幕(M)之光进行检测；以及第2感测器(5)，对自照明系统入射至反射式罩幕上所形成之基准反射面，并由基准反射面反射而到达投影光学系统(PO)像面之光进行检测。根据第1感测器的检测结果与第2感测器的检测结果，对第1感测器进行校正，并根据经过校正的第1感测器的检测结果对照射至感光性基板(W)的曝光量进行控制。