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发明名称
具有表面清净性之机能性构件
摘要
本发明之课题为提供一种能保持含有碳材料之氟树脂制之构件在本质上所具有的机能强度,且能提高其表面部之清净性的机能构件及其制造方法。又,提供能抑制半导体基板之污染的半导体制造装置。;其解决手段为提供一种具有表面清净性的机能性构件(4),其系由含有碳材料(2)的氟树脂(3)所构成之机能性构件(4),其特征为机能性构件(4)的表面部份(4a)上的碳材料(2)之含有率,相较于机能性构件(4)的内部(4b)上的碳材料(2)之含有率显着更少。
申请公布号
TWI408742
申请公布日期
2013.09.11
申请号
TW098106686
申请日期
2009.03.02
申请人
东京威力科创股份有限公司 日本
发明人
东岛治郎;金子聪
分类号
H01L21/306
主分类号
H01L21/306
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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