发明名称 矽系液晶配向剂、液晶配向膜及此等之制造方法
摘要 本发明之目的系以提供可得到液晶配向性良好,且于高温下藉低频率之元件驱动中,电压保持率高之液晶配向膜之矽系液晶配向剂及该制造方法。;含有下述之聚矽氧烷(A)及聚矽氧烷(B)为特征之液晶配向剂。;聚矽氧烷(A):将含有式(1)所表示之烷氧基矽烷之烷氧基矽烷,缩聚合所得之聚矽氧烷,R1Si(OR2)3(1)(R1系碳原子数为8至30个之有机基,R2系表示碳原子数为1至5个之烃基。);聚矽氧烷(B):将含有式(2)所表示之四烷氧基矽烷之烷氧基矽烷,缩聚合所得之聚矽氧烷,Si(OR3)4(2)(R3系表示碳原子数为1至5个之烃基。)
申请公布号 TWI411854 申请公布日期 2013.10.11
申请号 TW096107871 申请日期 2007.03.07
申请人 日产化学工业股份有限公司 日本 发明人 中岛由美惠;元山贤一;江口和辉
分类号 G02F1/1337 主分类号 G02F1/1337
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本