发明名称 透明导电层图案之形成方法
摘要 本发明之课题系提供一种可简单且以低成本来形成低电阻、高透明性且于视觉上不可见性高之透明导电层图案之方法。;本发明之透明导电层图案之形成方法,系具有以下步骤:(1)于基体上形成可剥离之透明导电层的步骤;接着,(2)于支撑体上形成经负型图案化之感热接着剂层的步骤;(3)将上述基体与上述支撑体黏合的步骤,使上述透明导电层与上述感热接着剂层相互密合。将上述支撑体自上述基体剥离,使与上述感热接着剂层密合之部分之上述透明导电层转移至感热接着剂层上,藉此于基体上形成透明导电层图案的步骤;此外,(4)于形成有上述透明导电层图案之基体的整面涂布保护层用涂料,含浸透明导电层使其固定于基体上的步骤。
申请公布号 TWI412044 申请公布日期 2013.10.11
申请号 TW099121368 申请日期 2010.06.30
申请人 迪爱生股份有限公司 日本 发明人 山崎嘉一;早川智;宫本雅史
分类号 H01B5/14;B29C59/02 主分类号 H01B5/14
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;丁国隆 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址 日本