钽溅镀靶

摘要

一种钽溅镀靶，其特征在于，含有1massppm以上、100massppm以下之铌作为必要成分，不计铌及气体成分之纯度在99.998%以上。得到具备均一微细之组织、电浆稳定、且膜之均匀性(uniformity)优异之高纯度钽溅镀靶。