发明名称 导电膜积层构件、光电装置、电子机器
摘要 本发明系提供一种高精细及高品质之导电膜积层构件。本发明之导电膜积层构件系包含形成于基板上之第1导电膜、形成于上述第1导电膜上之第2导电膜,上述第2导电膜之宽度窄于上述第1导电膜,且上述第2导电膜于剖面观察时在与上述第1导电膜相反之方向上具有弯曲成凸状之表面。
申请公布号 TWI413990 申请公布日期 2013.11.01
申请号 TW099130363 申请日期 2010.09.08
申请人 精工爱普生股份有限公司 日本 发明人 平井利充;冈本英司;石田紘平
分类号 H01B5/14;G06F3/041 主分类号 H01B5/14
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 日本