氮化硼与硼－氮化物衍生材料的沉积方法

摘要

在此提出方法和设备来形成间隔物材料邻接基板结构。在一实施例中，提出处理基板的方法，包括将基板放到沉积腔室内，且基板具有邻接基板表面的基板结构、沉积间隔物层至基板结构和基板表面、以及蚀刻间隔物层而露出基板结构和部分基板表面，其中间隔物层设置邻接基板结构。间隔物层包含氮化硼材料。间隔物层包含基底间隔物层和衬底层，间隔物层可以二步骤之蚀刻制程蚀刻。