发明名称 彩色滤光片之制法
摘要 于基板上,使用含有颜料、具有乙烯性不饱和双键之单体及光聚合引发剂之着色组成物形成着色涂膜之步骤,于上述着色涂膜之成为滤光片区或黑矩阵之部分照射波长308nm(XeCL)之准分子雷射至累计曝光量达1~150mJ/cm2以硬化之步骤,去除上述着色涂膜之未硬化部分形成滤光片区或黑矩阵的步骤经复数次重复,形成至少2色之滤光片区及/或黑矩阵的彩色滤光片之制法,及使用于该彩色滤光片之制法的含有颜料、具有乙烯性不饱和双键的单体及光聚合引发剂之着色组成物。
申请公布号 TWI413858 申请公布日期 2013.11.01
申请号 TW097101144 申请日期 2008.01.11
申请人 东洋油墨制造股份有限公司 日本;凸版印刷股份有限公司 日本 发明人 重森勋;宫村护嗣;和久寿男;饭田裕介;砂原建朗;松井浩平;池田武司;田中英世;青木英士;原田元气
分类号 G03F7/031;G02B5/20 主分类号 G03F7/031
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址 日本