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发明名称 浸润式微影系统及方法
摘要
申请公布号 TWI421652 申请公布日期 2014.01.01
申请号 TW099116721 申请日期 2006.04.18
申请人 ＡＳＭＬ控股公司 荷兰;ＡＳＭＬ荷兰公司 荷兰 发明人 卡麦利克　艾利克山大;西威　哈利;马克亚　路易斯　约翰;露卜斯塔　艾利克　罗勒夫;凯特　尼可拉斯　谭
分类号 G03F9/00;G03F7/20;B05C5/00 主分类号 G03F9/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 荷兰
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