发明名称 薄膜元件及其制造方法
摘要 本发明之薄膜元件具备基板以及设置于该基板上之电容器。电容器具有:配置于基板上之下部导体层;配置于该下部导体层上之介电体膜;以及配置于该介电体膜上之上部导体层。介电体膜之厚度为0.02~1 μ m之范围内,且小于下部导体层之厚度。下部导体层之上表面之最大高度粗糙度为介电体膜之厚度以下。
申请公布号 TWI427653 申请公布日期 2014.02.21
申请号 TW095140004 申请日期 2006.10.30
申请人 TDK股份有限公司 日本 发明人 桑岛一;宫崎雅弘;古屋晃
分类号 H01G4/33 主分类号 H01G4/33
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼
主权项
地址 日本