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发明名称
薄膜元件及其制造方法
摘要
本发明之薄膜元件具备基板以及设置于该基板上之电容器。电容器具有:配置于基板上之下部导体层;配置于该下部导体层上之介电体膜;以及配置于该介电体膜上之上部导体层。介电体膜之厚度为0.02~1 μ m之范围内,且小于下部导体层之厚度。下部导体层之上表面之最大高度粗糙度为介电体膜之厚度以下。
申请公布号
TWI427653
申请公布日期
2014.02.21
申请号
TW095140004
申请日期
2006.10.30
申请人
TDK股份有限公司 日本
发明人
桑岛一;宫崎雅弘;古屋晃
分类号
H01G4/33
主分类号
H01G4/33
代理机构
代理人
赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼
主权项
地址
日本
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